词语大全 スライダ中文翻譯
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词语大全 スライダ中文翻譯
ディスク表面の超薄膜液體潤滑膜とスライダとの相互作用を調べた。
調查了磁盤表面的超薄膜液體潤滑膜和滑動觸電之間的相互作用。
また，潤滑油はＡｌ２Ｏ３とＴｉＮのスライダ表面とも反応した。
還有，潤滑油也跟Ａｌ２Ｏ３和ＴｉＮ的ｓｌｉｄｅｒ表面起了反應。
最下段の細い橫棒は，楽曲中の経過時間を知らせる再生位置スライダである．
最下面的細橫線是表示樂曲經過的時間曲線。
また，スライダの動作精度については，約１０?２０ｎｍの分解能を確認した。
另外，關于滑塊的運動精度，經確認，分辨率約為１０～２０ｎｍ。
スライダとディスクの間に作用するファンデルワールス圧力を計算した。
計算出滾動物體與桌子間作用的范德華壓力。
図の橫軸は周波數，縦軸はスライダの円板半徑方向の振幅である。
圖的橫軸為頻率，縱軸為滑塊圓板半徑方向的振幅。
さらにスライダーバーを用いて，連続的にｎを変化させることができる（図５）．
再者，通過利用滑觸頭，（還能實現）連續不斷的ｎ種變化（圖５）。
各スライダはＳＯＩ基板上で加工分離し，絶縁膜上で電気的に獨立した構造にする。
各滑塊在ＳＯＩ底板上加工分離，成為絕緣膜上獨立于電子操縱的結構。
物質移動をスライダ材料の化學磨耗によって確認した。
根據ｓｌｉｄｅｒ材料的化學磨損確認了物質移動。
この分解は，ＤＬＣとｃ?ＢＮのスライダでは抑制され，化學磨耗は認められなかった。
這個分解在ＤＬＣ和ｃ－ＢＮ的ｓｌｉｄｅｒ被抑制，化學磨損不被承認。
製作したバッチプロセス型スライダアレイを用いて，動作確認及び動作特性評価を行った。
研究人員利用制作的批處理型滑塊陣列，進行了運動確認和運動特性評估。
ＡＣサーボモータとボールねじを用いた２軸協調リニアスライダの標記制御系を提案した。
提出了利用ＡＣ伺服電動機和球螺旋的２軸協調線性滑塊的標記控制系統。
検討の結果，ディスク上の潤滑の膜厚さが大きいほど，スライダが接觸しにくいことがわかった。
研究結果表明，磁盤上的潤滑膜的厚度越大，滑動頭的接觸越不良。
スライダはジンバルの先端に接合されており，ジンバルは十字バネの下側の中央部に接合されている。
滑塊連接在萬向架的頂端，萬向架連接在十字彈簧下側的中央部分。
磁気ヘッドはディスク表面上を十數ｎｍの間隔で浮上するスライダと一體で作られている。
磁頭在制作時與懸于盤片表面之上，與盤片表面間隔為十幾ｎｍ的滑塊的一體型。
スライダの接觸のメカニズムにすいて調べた。
還對與滾動物體接觸的機械裝置也做了研究。
図１に示したヘッド支持機構のスライダ半徑位置（図２のＲ）と風亂の関係を図３に示す。
圖１所示的磁頭支持機構的滑塊半徑位置（圖２的Ｒ）與風致偏差的關系如圖３所示。
本研究におけるＤＧＥＱ応用においては，１００μｍ幅以下のスライダの集積化が一つの目安となる。
在本研究的ＤＧＥＱ應用中，１００μｍ寬度以下的滑塊的集成化是一個標準。
接觸のメカニズムは，スライダとディスクの間に働く，非接觸力であるファンデルワールス力が支配的である。
接觸的裝置在滑動頭和磁盤間運動，靠非接觸力即分子間作用力來支配。
光學実証実験によって３本のスライダによるサブバンドごとの光損失制御を実証することができた。
通過光學驗證實驗，研究人員成功對３個滑塊引起的各個子帶的光損失控制進行了驗證。
タイムスライダによる任意箇所の再生．
根據時間滑動觸點可以再現任意部分。
高集積度スライダアレイは，多數のサブバンド數に対応することが可能になり，損失スペクトルの解像度向上が期待できる。
高集成度滑塊陣列能夠對應多個子帶數，有望提高損失譜的分辨率。
磁気ディスク裝置において，潤滑剤の種類や膜厚がスライダ挙動に及ぼす影響について検討した。
在磁盤裝置中，潤滑劑的種類以及薄膜厚度對滑動頭的行動都會產生影響，對此做了一些研究。
スライダ?電極パッド間はばね構造部により支持されており，このばね構造部を介して制御電圧信號を供給する。
滑塊－電極極板間由彈簧結構部分支撐，經由該彈簧結構部分供應控制電壓信號。
ユーザはダイヤルやスライダーなどを使って，ストリームラインの密度など，いくつかのパラメータを対話的に制御することができる．
使用撥號盤或游標，能夠對話地控制流線密度等幾個參數。
スライダの半徑が異なると，ヘッド支持機構に対する風の當たり方が異なり，振動特性が異なることが観察される。
如果滑塊的半徑不同，則風接觸磁頭支持機構的方式不同，可以觀察到不同的振動特性。
今回報告するＳｉスライダアレイの設計においては，構造の絶縁分離に有効なＳＯＩ基板を用いた方法を採用した。
此次報告的Ｓｉ滑塊陣列的設計采用了對于結構的絕緣分離有效的使用ＳＯＩ底板的方法。
動作実験を通してＥＣＬＩＡの駆動原理に基づき，スライダの前進，停止，後進動作を実現することができた。
通過運動實驗，研究人員根據ＥＣＬＩＡ的驅動原理，成功實現了滑塊的前進、停止、后退運動。
図９に多數スライダ，ガイドスリット，ばね構造部及び電極パッドで構成されるＳｉスライダアレイの概要図を示す。
圖９顯示的是由多個滑塊、導軌、彈簧結構部分以及電極極板構成的Ｓｉ滑塊陣列的概要圖。
図９に多數スライダ，ガイドスリット，ばね構造部及び電極パッドで構成されるＳｉスライダアレイの概要図を示す。
圖９顯示的是由多個滑塊、導軌、彈簧結構部分以及電極極板構成的Ｓｉ滑塊陣列的概要圖。
スライダすべり実験を行った。
做了滾動物體滑動實驗。
実証結果を受けて，ＤＧＥＱを実現するにはさらに多數の微小なスライダを配置してスライダの集積度を上げることが求められる。
驗證結果顯示，為了實現ＤＧＥＱ，需要配置多個微小滑塊，提高滑塊的集成度。
実証結果を受けて，ＤＧＥＱを実現するにはさらに多數の微小なスライダを配置してスライダの集積度を上げることが求められる。
驗證結果顯示，為了實現ＤＧＥＱ，需要配置多個微小滑塊，提高滑塊的集成度。
さらに，スライダとスライダの間にガイドスリット構造を設けることにより，スライダの駆動方向を矯正する役割をもたせている。
并且，通過在滑塊與滑塊之間設置導軌結構，使其擁有了矯正滑塊驅動方向的功能。
さらに，スライダとスライダの間にガイドスリット構造を設けることにより，スライダの駆動方向を矯正する役割をもたせている。
并且，通過在滑塊與滑塊之間設置導軌結構，使其擁有了矯正滑塊驅動方向的功能。
さらに，スライダとスライダの間にガイドスリット構造を設けることにより，スライダの駆動方向を矯正する役割をもたせている。
并且，通過在滑塊與滑塊之間設置導軌結構，使其擁有了矯正滑塊驅動方向的功能。
実現したスライダの動作範囲は約１５０μｍ（前進１００μｍ，ガイドスリットによる制限のため後進５０μｍ）であった。
實現的滑塊的運動范圍約為１５０μｍ（前進為１００μｍ，受到導軌的限制，后退為５０μｍ）。
アクチュエータは，ヘッドスライダー，ジンバル，十字バネ，サスペンション，マウント，ヨーク，そして４個の微小コイルから成る。
驅動器由磁頭滑塊、萬向架、十字彈簧、懸架、固定件、磁軛以及４個微線圈組成。
區間を直接クリック（タッチパネル使用時にはタッチ）して再生したり，再生位置スライダをクリックして位置変更したりすることが可能である．
能夠直接點擊段落（使用觸摸屏時觸摸）播放，點擊播放位置曲線改變位置。
振動の大きさは，スライダ半徑差により一様に定まるものではなく，スライダ半徑位置３８．８ｍｍでの振動が大きいことが分かる。
振動的大小不隨滑塊半徑差唯一確定，由此可知，滑塊半徑位置３８．８ｍｍ的振動較大。
振動の大きさは，スライダ半徑差により一様に定まるものではなく，スライダ半徑位置３８．８ｍｍでの振動が大きいことが分かる。
振動的大小不隨滑塊半徑差唯一確定，由此可知，滑塊半徑位置３８．８ｍｍ的振動較大。
磁気ディスク上における表面反応をセラミックスライダを裝著した滑り試験裝置を用い，超高真空の下で調べた。
通過在磁盤上安裝裝有ｃｅｒａｍｉｃ ｓｌｉｄｅｒ的滑動實驗裝置，在超真空的條件下來調查磁盤的表面反應。
実際に用いられる浮動ヘッドスライダを用いて，分子量?末端基構造の異なる潤滑剤を塗布したディスクで摺動実験を行った。
利用被應用在實際中的磁頭浮動塊，用涂滿了分子量·末端基構造的不同的潤滑劑的磁盤進行滑動實驗。
パラメータ値の変更は，図１０に示すようにスライダアイコンをマウスで選択したまま上下に動かし，その移動量で変更値の増減を指定する．
參數值的變更，如圖１０所示利用鼠標選擇滑動圖像進行上下動作，利用這種移動量來指定變更值的增減。
それぞれのビューは互いに識別可能なテーマカラーを持ち，ビューの縁取りの色や，各種スライダ上のインジケータの色，ボタンの色に用いられる．
各種視圖擁有可相互識別的主體色彩，被用于視圖的邊緣色、各種滑子上的指示符顏色、按鈕顏色中。
聴き手は，これを見ながら前述の自動ジャンプボタンで操作してもよいし，通常の早送りボタンや再生位置スライダを使って，望みの箇所へ移動してもよい．
聽者邊看畫面邊操作前述的跳躍按鈕，也可以使用通常的快進鍵和播放位置曲線，移動到期望的地方。
そこで本研究では，高解像度の利得等化器の実現を目指し，バッチプロセスによるスライダアレイ構造の設計?製作を行った結果について述べる。
為此，將介紹在本研究中以實現高分辨率的增益平坦器為目的，利用批處理進行滑塊陣列結構的設計、制作的結果。
これらは，ハードディスク等に蓄積されている楽曲を計算機上のメディアプレーヤで聴く場合にも基本的に同じであるが，再生位置スライダが用意されることがある．
這些和用電腦上的媒體播放器收聽儲存在硬盤上的樂曲基本相同，可以準備好播放位置的曲線。
多數の微小なスライダを高い集積度で実現するには，マイクロマシーニング技術の特徴を生かしたバッチプロセスによって機構を実現することが有効になる。
為了以高集成度實現多個微小滑塊的集成，利用微機械加工技術的特征的批處理來實現機構的方式將是有效的。
ヘッド支持機構は，先端に信號の記録?再生のためのヘッド素子を搭載したスライダを有し，スウェッジ部で磁気ディスク裝置のアクチュエータに固定される。
磁頭支撐結構具有在尖端配備了信號記錄、讀取用磁頭元件的滑塊，并通過鉚釘部分被固定在磁盤驅動器上。
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