词语大全 靶材的法文

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词语大全 靶材的法文

3多晶靶材的制備研究

在薄膜濺射前,成功制備出濺射用靶材。

高靶材利用率的新型磁控濺射器

：主要用于制作ito靶材、合金及光電元器件等。

強流脈沖離子束模型及輻照靶材能量沉積的模擬研究

靶材發生侵蝕破壞和沖塞型破壞。

用射頻濺射法在si襯底上制備立方氮化硼，靶材為hbn ， 。工作氣體為氬氣。

介電層靶材升級與顯示器靶材之開發與量產化

-主要從事光電晶體系列材料濺射靶材的制備和光學元器件研發與生產。

在金屬誘導一維sic生長的實驗中，我們采用激光濺射鐵靶材來獲得納米鐵顆粒。


利用xrd 、 sem 、 xrf手段分別對靶材的相結構,顯微結構,元素含量進行分析。

在熱壓法制備pcoo _ 2靶材的過程中,使用了石墨模具,碳化硅模具。

本文以高純金屬釩作為靶材，采用磁控濺射工藝制備氧化釩薄膜。

第五章討論了投資戰略的主要戰略構成要素，較為系統地設計了株冶集團銦靶材項目的投資戰略。

本文利用al - si合金和純al作為靶材,通過多弧離子鍍的方法在kapton膜上制備防護膜層。

其中離子對靶材的濺射模擬運用了srim模擬軟件，其余各過程的模擬通過自己編寫的程序進行。

用e ? e望遠鏡探測器同時地得到靶材料上從輕至中重各種元素的深度分布，其深度分辨達20 30nm 。

經過反復實驗，我們最終確定穩定的靶材成分為： si含量約為50 % ， cr含量約為40 % ， ni含量4 %左右，另外還有少量的ti及其他元素。

脈沖強激光輻照固體靶材時，瞬間即可在靶材輻照面形成一個高溫高壓的等離子體層。

在金屬膜電阻器的生產過程中，靶材是非常關鍵的，它制約著金屬膜電阻器的精度、可靠性、電阻溫度系數等性能。


就此開展的lsco薄膜生長工藝研究取得了以下結果: 1 .研究了lsco粉末的溶膠凝膠自燃燒工藝,并制備了lsco靶材。

發現磁控濺射法可以沉積得到與靶材組分一致的錳銅薄膜，沉積的最佳溫度為150 200 ’ c ，并且陰極靶的溫度對薄膜tcr有很大的影響。

文中采用流體動力學模型，解析地描述了脈沖強激光輻照靶材時，激波的產生及增強、維持和衰減規律，給出了激波峰值壓力、激波速度、激波波形的時空關系。

其中使用碳化硅模具,制備出純度和密度較高的熱壓靶材,靶材密度為5 . 21g / cm3 ,達到pcoo _ 2理論密度的94 % 。

利用盧瑟福散射截面和離子在靶材料中的阻止本領，編制程序將能譜轉換成元素的深度分布。從而實現高精度的深度分辨測量。

從微觀機制出發，系統地對質子輻射與材料的相互作用基本物理過程進行了描述，入射質子與靶材料的作用主要為核散射和電子作用，在高能質子入射的情況下還有核反應的發生。

此外，為了防止靶材的破裂，降低其內應力，自行設計了熔煉模殼及冷卻方法，有效的解決了靶材的開裂問題，使靶材熔煉的成品率達到90 %以上。

使用射頻濺射( rf )系統,靶材為燒結的六角氮化硼( hbn ) ,工作氣體為氬氣(或氬氣和氮氣的混合氣) ,在硅襯底上沉積氮化硼薄膜。

本研究課題以純鈦靶和純鎢靶為靶材,采用反應磁控濺射法在玻璃基片上制備非晶態tio _ 2 : w薄膜。

薄膜成分分析表明,可以通過改變粘貼在大靶上不同成分小靶的數量來改變整個復合靶材的成分,以達到在濺射過程中控制plct熱釋電薄膜的元素含量的目的。


用磁控濺射方法以此靶材濺射得到了1 - 10 m厚的、均勻的ge - ga - s - se硫系玻璃薄膜，其大的折射率表明其用于集成光學具有明顯的優勢。

本文針對3英寸ybco高溫超導雙面薄膜的制備技術，研究了靶材燒制、薄膜膜厚分布、加熱器設計與制作，制備出了具有87k超導性的3英寸ybco雙面薄膜樣品。

本文特別指出，所用靶材料均是自制的，碳基復合靶材和制備的復合電特性膜材料主要取自于秸稈廢棄物，因此具有環保意義和資源再生的意義。

靶材先是出現沿侵徹方向的剪切變形，當變形達到一定深度后，彈體前方的材料與靶材發生剪切斷裂。靶材發生沖塞型破壞侵徹機理為剪切型侵徹或沖孔型侵徹。

本文利用射頻磁控濺射的方法，以聚四氟乙烯( ptfe )為靶材，在聚酰亞胺( pi )和聚丙烯( pp )基底上沉積氟碳膜，對不同工藝條件(放電功率、真空度、處理時間)進行了探討。

本文使用熱壓燒結方法和冷壓后燒結方法制備了磁控濺射用的pcoo _ 2靶材,并使用磁控濺射方法制備了pcoo _ 2薄膜,對兩者的制備工藝進行了研究。

針對提高金屬膜電阻器的穩定性這一共同的目的，本文分為兩個部分，第一部分是金屬膜電阻器高阻靶材的研制；第二部分是金屬膜電阻器專用涂料基體的研究。

本文圍繞制備性能優異的電光材料,從電光材料的選擇、材料配比、靶材制備、射頻磁控濺射鍍膜設備的研制、電光薄膜材料制作等方面進行了研究。

結果表明薄膜的制備方法影響了薄膜的微觀結構，磁控濺射過程中，電場和磁場影響了靶材原子的沉積，使玻璃薄膜中的電偶極子在一定程度上得到了定向排布，使薄膜呈現出顯著的二階非線性效應。

本文在本科研組已有工作基礎上改進和優化了時間分辨譜測量方法和裝置，對xe閃光燈脈沖時間分辨光譜進行了成功的實測，對脈沖激光沖擊靶材的輻射譜進行了時間分辨測量。


文摘:本文在探討鍍膜玻璃一些基本問題的基礎上，闡述了磁控濺射在玻璃涂層技術中的應用機理、靶的結構、靶材的選取、提高膜層質量以及鍍膜玻璃的應用及發展前景等問題。

在冷壓燒結方法制備pcoo _ 2靶材的過程中,燒結前添加了不同量粘結劑,就綜合純度和粘結性能兩方面考慮,加入1 %的粘結劑較為理想。所制備的pcoo _ 2靶材密度為4 . 89g / cm3 ,達到pcoo _ 2理論密度的88 % 。

相关参考