氮化硅电热水龙头(国产半导体设备双雄)

Posted 2023-05-30

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氮化硅电热水龙头(国产半导体设备双雄)

北方华创由七星电子和北方微电子战略重组而成，七星华创前身是北京华北无线电联合器材厂，即718联合厂，中国第一颗原子弹和人造卫星的许多关键元件就出自这里。七星华创与京东方在LCD面板设备及配件等业务领域合作，后又成为国内最大的单晶炉制造企业之一，是隆基股份的主要设备提供商。北方微电子产业基地成立于2000年，投资方包括首钢、京东方等企业。于2005年使我国成为继美、日后第三个能提供100nm刻蚀技术解决方案的国家。

北方华创主营业务为北方华创微电子的泛半导体装备，北方华创真空的真空装备新能源锂电装备，七星华创的精密元器件四大块。泛半导体装备收入占比接近70%，而精密电子元器件净利润贡献61.3%。于2018年和2020年分别收购美国Akrion和北广科技射频技术资产，拓展硅片清洗设备和射频业务。

薄膜沉积技术主要是PVD与CVD，北方华创的PVD设备国内领先，拓荆科技销售设备主要为CVD设备。北方华创28nm硬掩膜物理薄膜沉积PVD已实现量产，立式LPCVD设备THEORISSN302D型12英寸氮化硅沉积设备进入国内集成电路制造龙头企业。刻蚀ICP设备优势明显，国内市场部分客户份额近10%。

北方华创扩产项目分布在江苏无锡和北京两地，北京北方华创微电子装备有限公司主导等离子刻蚀（Etch）、物理气相沉积（PVD）等设备的布局。无锡华创先锋半导体装备项目将重点发展晶圆制程加热器等卡脖子分立式器件的研发及国产化。

中微公司刻蚀设备全球排名第六，新一代刻蚀设备能够涵盖5纳米以下更多刻蚀需求和更多不同关键应用的设备。

中微的电容性等离子体刻蚀设备供货长江存储，应用于64层、128层以及128层以上的产品。不久，我们会看到中微的CCP等离子体刻蚀设备产品，应用与合肥和无锡的1X纳米的DRAM芯片。

中微公司在南昌生产基地项目进行MOCVD设备的扩产。在国内市场基本替代了德国Aixtron和美国VECCO的设备，2020年全球市占率达到16%。由于MOCVD设备在第三代半导体的广泛应用，公司得以切入这个迅速爆发的领域，未来会开发硅基氮化镓及碳化硅功率器件专用的外延设备。同时，中微公司参股了拓荆科技，未来进一步在气相沉积设备领域发力。中微半导体投资的上海睿励，其薄膜厚度测量设备最高可应用于5nm，并且可以应用于芯片制造前后端，以及10nm级DRAM、3D NAND的存储芯片领域。

不过最近听说，部分核心人员被挖出来新成立了一家公司，做 ICP 蚀刻设备，已经获得了一些大客户。现在中国半导体领域钱多，这也是没办法的事情。