氧化铟靶材(「异质结」PVD 镀膜材料——靶材知识（附企业名单）)

Posted 2023-05-30

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氧化铟靶材(「异质结」PVD 镀膜材料——靶材知识（附企业名单）)

1、PVD 镀膜材料概述

PVD 镀膜材料主要用以制备各种具有特定功能的薄膜材料，应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件、节能玻璃、 LED、工具改性、高档装饰用品等。

（1）薄膜材料制备技术概述

薄膜材料生长于基板材料（如屏显玻璃、光学玻璃等）之上，一般由金属、非金属、合金或化合物等材料经过镀膜后形成。目前，薄膜材料制备技术主要包括物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。

①PVD技术

PVD 技术是制备薄膜材料的主要技术之一，指在真空条件下采用物理方法，将某种物质表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基板材料表面沉积具有某种特殊功能的薄膜材料的技术。在PVD 技术下，用于制备薄膜材料的物质，统称为 PVD 镀膜材料。经过多年发展，PVD 技术已成为目前主流镀膜方法，主要包括溅射镀膜和真空蒸发镀膜。

②CVD技术

CVD 技术是在高温下依靠化学反应、把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜材料的技术。

PVD 镀膜材料产业链上下游关系

2.PVD 镀膜材料下游太阳能应用行业概况

太阳能光伏行业中，PVD 镀膜材料主要应用于太阳能电池。按太阳能电池的结构划分，可分为结晶硅和薄膜太阳能电池二大族群。目前，PVD 镀膜工艺主要在薄膜太阳能电池中使用，主要镀膜材料为溅射靶材。其中，较为常用的溅射靶材包括铝靶、铜靶、钼靶、铬靶以及 ITO 靶、AZO 靶（ Aluminum Zinc Oxide，氧化铝锌）等，纯度要求一般在 99.99%以上，其中，铝靶、铜靶用于导电层薄膜，钼靶、铬靶用于阻挡层薄膜，ITO 靶、AZO 靶用于透明导电层薄膜。

结晶硅技术长期在太阳能电池产业中占据主流地位，由于其成本较高，业内一直通过提升电池转换效率、降低硅片切割厚度等技术来降低成本；与此同时，薄膜太阳能电池因其生产成本低、弱光性好（即在阴天发电能力强）、容易集成等优势，逐渐受到行业关注并增长迅速，未来薄膜太阳能电池市场占有率将逐步提高。

3、行业内主要企业

主要跨国企业

贺利氏

贺利氏集团（Heraeus）成立于 1851 年，总部位于德国哈瑙市，是国际著名的集贵金属化工产品研发、生产及销售服务的高科技跨国集团公司，主要从事贵金属材料与技术、齿科材料、石英玻璃、工业传感器和特种光源等高新技术领域，产品广泛服务于半导体行业，其中高纯石英和溅射靶材、蒸发材料应用于芯片制造、导电胶和键合丝应用于集成电路、分立器件和光电器件的封装。

上海贺利氏工业技术材料有限公司是贺利氏在中国设立的从事新材料的子公司，成立于 1994 年 9 月 19 日，注册资本 810 万美元，经营范围：回收利用、加工、生产铱粒，催化网，铂族（铂、铑、钯、钌、铱、锇）化合物，电子浆料，陶瓷颜料，铂金漏板，硬质合金轴承珠和微型刀具，铂铑热电偶丝和配件，实验室用铂金器皿，模压塑料/金属组体，用钛、铌、锆和钽制成的电极和耐腐管子管材，真空靶材，母合金颗粒，电路、零部件材料及钯、铑、铱、钌、锇、硅树脂、锗、铬、铟和锡材料，金属和陶瓷类义齿材料，销售自产产品。

优美科

优美科集团（Umicore）是一家全球材料科技集团，总部位于比利时。优美科拥有四大业务集团：催化、能源材料、高性能材料和回收。每个业务集团又划分为以市场为导向的不同业务单位，这些业务单位提供走在技术发展前沿并且是日常生活所必需的材料和解决方案。优美科在全球各大洲开展运营，客户群遍及全球。优美科2014-2016年度的销售额分别是88.28亿欧元、104.42 亿欧元、110.86亿欧元。

优美科先导薄膜技术有限公司是优美科在中国设立的从事溅射靶材的子公司，于 2014 年 9 月 11 日在广东省清远市成立，注册资本为 14,000 万元，经营范围：在中国领域内开发、生产、绑定、营销和销售平板及旋转氧化铟锡（“ITO”）溅射靶材（“ITO”靶材）；为生产 ITO 靶材或蒸镀级 ITO，在中国领域内开发、生产、营销和销售以下中间品：氧化铟、氢氧化铟、ITO 粉末和 ITO 丸；在中国领域内回收 ITO 废靶、ITO 生产废料和使用 ITO 靶材产生的副产品；为金属套期保值和库存管理的目的销售铟。

北京优美科巨玻薄膜产品有限公司是优美科在中国设立的从事光学镀膜材料生产的子公司，成立于 1991 年 11 月 21 日，注册资本 54 万元，经营范围：生产光学镀膜材料和制品及其它薄膜镀膜材料和制品；销售自产产品等。

普莱克斯

普莱克斯公司（Praxair）总部位于美国，是世界最大的气体供应商之一，该公司最初创建于 1907 年，主要产品包括大气气体产品、生产气体产品以及表面技术产品。普莱克斯公司主要服务于航空航天、化工、医疗保健、金属生产、石油天然气、能源、电子等行业，其中其电子行业的主要产品包括电子设备、大气气体输送系统、溅射靶材等，其溅射靶材主要应用于电子及半导体行业。

霍尼韦尔

霍尼韦尔国际公司（Honeywell International Inc.）成立于 1885 年，总部位于美国，拥有航空航天集团、自动化控制系统集团以及特殊材料和技术集团三大业务部门。其中特殊材料和技术集团下属特性材料业务部门，主要产品之一电子原材料包括热界面材料、电子化学品、电子聚合物、贵金属热电偶、靶材、线圈组和金属材料等。霍尼韦尔的主要靶材包括钛铝靶、钛靶、铝靶、钽靶、铜靶等。

住友化学

住友化学株式会社（Sumitomo Chemical Company, Limited）成立于 1913 年，总部位于日本，主要服务于石油化学、能源-功能材料、情报电子化学、健康-农业相关事业和医药五大领域。其中情报电子化学向 ICT 相关产业提供液晶显示器中使用的光学薄膜和彩色光阻剂，半导体制造过程中使用的光刻胶和高纯度药品，电子零部件和电动汽车所使用的超级工程塑料，以及锂离子二次电池用构件等各类产品。住友化学在国内设立的子公司中从事新材料相关业务的有住化电子材料科技（无锡）有限公司、住化电子材料科技（上海）有限公司、住化华北电子材料科技（北京）有限公司三家公司。

住化电子材料科技（无锡）有限公司成立于 2004 年 7 月 26 日，注册资本16,222.22 万美元，经营范围：开发、生产半导体、元器件专用材料、电子用高科技化学品、工程塑料、塑料板；并提供售后服务、技术服务；自有厂房租赁；从事上述产品的批发、零售、佣金代理及进出口业务，设备租赁。

住化电子材料科技（上海）有限公司成立于 2001 年 9 月 14 日，注册资本 777.78 万美元，经营范围：区内光学用多功能薄膜的生产加工及光学用多功能薄膜加工设备、器械（斜角剪切机、压力贴合机、半裁机、万能剪切机、重绕机）的制造，金属镓的精制、加工；应用于液晶面板及半导体前制程的溅射靶材与靶材衬底的贴合加工，以及其他有关液晶显示器用零部件的制造；销售自产产品等。

住化华北电子材料科技（北京）有限公司成立于 2009 年 11 月 16 日，注册资本 4,366.67 万美元。经营范围：生产 TFT-LCD 平板显示屏材料；TFT-LCD 平板显示屏材料的开发；技术咨询、技术服务；销售自产产品；TFT-LCD 平板显示屏材料、电子材料的批发、佣金代理（拍卖除外）、进出口业务。

东曹

东曹株式会社（Tosoh Corporation）成立于 1935 年，总部位于日本，其功能产品部门由有机化学产品、高机能材料产品、生命科学三部分组成，其中高机能材料产品主要包括电池材料、石英玻璃、分子筛、溅射靶材等。其溅射靶材通过在美国、日本、韩国和中国的生产基地生产，主要用于半导体、太阳能发电、平板显示器、磁记录媒体等领域。

东曹达（上海）电子材料有限公司是东曹株式会社在中国设立的涉及溅射靶材业务的子公司，成立于 2011 年 7 月 6 日，注册资本 100 万美元，经营范围：研发、生产、加工机电、电子、半导体、光能设备、相关材料产品（溅射靶材、石英）及以上相关产品零部件，销售公司自产产品，并提供仓储；同类商品（特定商品除外）的批发、进出口、佣金代理（拍卖除外）及相关产品售后技术、咨询等配套服务；电子材料科技领域内的技术开发、技术咨询、技术服务及技术转让业务。

JX 金属

JX 金属株式会社（JX Nippon Mining & Metals Corporation）成立于 1992 年，为 JX 控股子公司。JX 控股总部位于日本，主要有能源业务、石油天然气探测和生产业务、金属业务三大业务，其中金属业务为 JX 金属运营，JX 金属以铜为中心，致力开展从上游的资源开发、中游的金属冶炼至下游的电子材料加工、环保资源再生业务，主要产品包括铜箔、复合半导体、金属粉末、溅射靶材等，其中溅射靶材主要用于大规模集成电路、平板显示、相变光盘等。

爱发科

日本爱发科真空技术株式会社（ULVAC,Inc.）成立于 1952 年，总部位于日本，设有真空设备部门和真空应用部门，主要产品分为真空设备、真空组件和原材料三大类，其中原材料包括高性能材料和溅射靶材，其溅射靶材主要应用于平板显示、半导体、太阳能电池等领域，此外爱发科还可以生产 ITO 靶材。

爱发科真空技术（苏州）有限公司是爱发科中国设立的涉及溅射靶材业务的子公司，成立于 2003 年 7 月 8 日，注册资本为 3,450 万美元，经营范围主要是：液晶、半导体生产用装置，真空炉，真空相关装置、零部件的研究开发、生产、加工，销售其产品并提供售后服务。自有多余厂房出租（出租对象仅限于与本公司生产经营直接关联的或集团内部企业）；本公司生产产品的同类商品及原材料的批发、进出口、佣金代理（拍卖除外）及相关业务。

三井矿业

三井矿业冶炼有限公司（Mitsui Mining & Smelting Co.,Ltd.）成立于 1950 年，主营业务包括工程材料、电子材料制造和销售，非铁金属加工、资源开发、贵金属回收、原材料相关事业，汽车配件制造和销售等。2014-2016 年度的销售额分别为 4,410.46 亿日元、4,732.74 亿日元、4,506.53 亿日元。其中 PVD 镀膜材料所属部门 2014、2015 年度的销售额分别为 1,366 亿日元、1,532 亿日元、1,440 亿日元。

2、国内主要 PVD 镀膜材料厂商

目前中国涌现了一批 PVD 镀膜材料行业的参与者

江丰电子

宁波江丰电子材料股份有限公司成立于 2005 年 4 月，注册资本 21,876.00万元。江丰电子主营业务为高纯溅射靶材的研发、生产和销售，主要产品为各种

高纯溅射靶材，包括铝靶、钛靶、钽靶、钨钛靶等，主要用于制备电子薄膜材料。

目前，江丰电子产品主要应用于半导体、太阳能电池及平板显示器等领域。2014-2016 年度，江丰电子营业收入分别为 2.45 亿元、2.91 亿元、4.43 亿元。（资料来源：江丰电子招股说明书）

隆华节能

洛阳隆华传热节能股份有限公司（300263，SZ）成立于 1995 年 7 月 5 日，于 2011 年 9 月 16 日在创业板上市，主营业务为热传节能产品、环保水处理产品及服务。隆华节能分别于 2015 年和 2016 年通过收购洛阳高新四丰电子材料有限公司和广西晶联光电材料有限责任公司介入 PVD 镀膜材料行业。四丰电子和晶联光电基本情况如下（资料来源：隆华节能定期报告及相关公告、国家企业信用信息公示系统）：

四丰电子成立于 2001 年 6 月，目前注册资本 7,000.00 万元，主要从事高纯金属及合金材料业务，产品以钼靶材为主。2015 年 1 月，隆华节能完成对四丰电子 100%的收购，并于 2016 年 2 月起将其纳入合并报表范围。

晶联光电成立于 2007 年 9 月，目前注册资本 8,453.5747 万元，主要从事氧化铟锡（ITO）靶材的研发、生产和销售；2016 年 8 月 24 日，隆华节能发布《关于对外投资的公告》，通过股权转让及增资方式持有晶联光电 70%股权。

总结：这个行业呢现在好的制程基本都是进口，因为进口的相对于国内的质量比较稳定，价格贵一点平摊下来也显不出多贵来了；就太阳能行业来说，太阳能行业仅限薄膜太阳能才能用到PVD镀膜，行业内最大的就是汉能了；所用的靶材：现在已经进展到用铜铟镓硒的技术了；靶材生产厂商：赣州研创（台湾公司）/深圳欧莱等等