曝光显影蚀刻工艺流程说明(简述金属蚀刻加工工艺)
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曝光显影蚀刻工艺流程说明(简述金属蚀刻加工工艺)
金属蚀刻加工工艺技术分湿蚀刻和干蚀刻两种，金属蚀刻加工是一些系列化学过程组成的。主要是通过化学药水的反应或者物理冲击对金属材料进行溶解形成相应的图案。
金属蚀刻加工工艺又称光化学蚀刻，主要的流程是通过对金属的材质进行表面处理，对表面的油脂和非正常的面进行抛光等，经过附膜后进行曝光机曝光，然后通过显影，通过冷却后，通过蚀刻阶段，利用化学溶液接触，去除金属蚀刻区的保护膜，以达到溶解腐蚀、形成凸点或者挖空。蚀刻技术已经完全融入航空、机械、化工、半导体制造工艺，电子信息产业等。
金属蚀刻加工工艺的优势在于样品制作成本低、几乎所有的金属都在蚀刻范围内、金属硬度上没有限制、无刮花、无毛刺、设计上快速，简单，效率高、制程耗时48小时、材料厚度对公差的影响±10%、产品包装，转移极其方便。冲压上制造成本高，尽管所有金属都能进行，但是在硬度太大、太小，容易碎的金属都不可用、切割的边缘上有刮痕、局部有毛刺。
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