无臭氧(耗臭氧物质记录簿如何正确填写)

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无臭氧(耗臭氧物质记录簿如何正确填写)


近日,有一艘船舶在QD进行例行检查时,PSCO开出了一条关于船舶驾驶台安装立式空调(2021年加装,制冷剂R22)限期拆除,这又是为什么呢?目前,很多老龄化船舶在驾驶台加装了立式空调,是否都要拆除自己安装的空调呢?我们一探究竟。


一、什么是臭氧物质(OZONE DEPLETING SUBSTANCES)

目前制冷空调行业广泛采用氢化氯氟烃类制冷剂,而该类制冷剂会破坏臭氧层。目前船用制冷剂大多采用R404A。对于本轮安装的立式空调中制冷剂R22又是什么物质?

R22是氟利昂家族的一员,属于氢氯氟烃类。氟里昂的定义,氟里昂是饱和烃类(碳氢化合物)的卤族衍生物的总称氟利昂-22(代号:R22)

R22也是烷烃的卤代物,学名二氟一氯甲烷,标准蒸发温度约为-41℃,凝固温度约为-160℃,冷凝压力同氨相似,单位容积标准制冷量约为454kcal/m3,是一种很好的制冷剂,但是对臭氧具有破坏性。

二、关于公约对于制冷剂要求

首先是MARPOL公约附则VI第 12 条关于消耗臭氧物质有如下要求

1 本条不适用于无制冷剂充注接头的永久密封设备或无可拆卸的含有消耗臭氧物质部件的永久密封设备。

2 根据第 3.1 条的规定,须禁止消耗臭氧物质的任何故意排放。故意排放包括系统或设备的维护、检修、修理或处置过程中发生的排放,但故意排放不包括与消耗臭氧物质的回收或再循环相关的微量释放。消耗臭氧物质泄漏引起的排放,无论此泄漏是否属于故意,均可由各当事国加以管理。

3.1 在下列情况下,须禁止使用含氢化氯氟烃以外的消耗臭氧物质的装置:

(1) 2005 年 5 月 19 日或以后建造的船舶上;或

(2) 对于2005 年 5 月 19 日以前建造的船舶,设备交付船上的合同日期为 2005 年 5 月 19 日或以后,或,若无交付合同日期,设备交付船上的实际日期为 2005 年 5 月 19 日 或以后。

3.2 在下列情况下,须禁止使用含氢化氯氟烃的装置:

(1)2020 年 1 月 1 日或以后建造的船舶上;或

(2)对于 2020 年 1 月 1 日以前建造的船舶,设备交付船上的合同日期为 2020 年 1 月 1 日或以后,或,若无交付合同日期,设备交付船上的实际日期为 2020 年 1 月 1 日或 以后。

4 本条所述的物质以及含有此类物质的设备,从船上卸下时,须送至合适的接收设施。

5 每艘受第 6.1 条管辖的船舶须保存含消耗臭氧物质的设备清单 2。

6 每艘受第6.1 条管辖,具有含消耗臭氧物质的再充注系统的船舶须保存一份《消耗臭氧物质记录簿》。 经主管机关批准,该记录簿可以是现有航海日志或电子记录系统的一部分。

7 《消耗臭氧物质记录簿》中的登记,须按物质的质量(kg),就下列情况及时记入:

.1 含消耗臭氧物质的设备的全部或部分重新充注;

.2 含消耗臭氧物质的设备的修理或维护;

2 见附录 I,国际防止空气污染证书(IAPP 证书)附页,第 2.1 节。

.3 消耗臭氧物质向大气中排放:

.3.1 故意排放;及

.3.2 非故意排放;

.4 消耗臭氧物质向陆基接收设施的排放;及

.5 向船舶供给的消耗臭氧物质。

什么是臭氧物质(OZONE DEPLETING SUBSTANCES)

目前制冷空调行业广泛采用氢化氯氟烃类制冷剂,而该类制冷剂会破坏臭氧层。目前船用制冷剂大多采用R404A。对于本轮安装的立式空调中制冷剂R22又是什么物质?

R22是氟利昂家族的一员,属于氢氯氟烃类。氟里昂的定义,氟里昂是饱和烃类(碳氢化合物)的卤族衍生物的总称氟利昂-22(代号:R22)

R22也是烷烃的卤代物,学名二氟一氯甲烷,标准蒸发温度约为-41℃,凝固温度约为-160℃,冷凝压力同氨相似,单位容积标准制冷量约为454kcal/m3,是一种很好的制冷剂,但是对臭氧具有破坏性。

证书关于消耗臭氧物质记录

三、本轮关于在2021年安装的空调使用R22制冷剂,PSCO要求限期拆除是对的。大家是否疑问,我们可以说是在2020年以前安装的,应该没有问题吧? 可以追溯空调生产日期,若是确实在2020年以前安装,我们要关注空调安装的位置、穿舱壁贯穿件是否有问题,是否有封堵。各大船级社目前对空调没有强制持有产品证书要求,因此在船有船厂合格证就可以。

四、常见问题汇总

1、 在证书里面是否有没有消耗臭氧物质设备?

对于在2020年月1日前安装的消耗臭氧物质设备或系统需要记入证书中,在Form Air中体现。

2、设备充注记录是否完整?

每日工作在轮机日志记录,有时在记录薄没有记录。

3、岸基供船是否记录?

很多船舶有时都会忘记,在审核是看到物料清单,再追溯记录薄,经常遗漏。

4、消耗臭氧物质设。

The secret of success lies in perseverance.

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