性能设备(半导体设备性能参数追平国际水平 这家细分龙头透露当前订单饱满｜科创板调研掘金)
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性能设备(半导体设备性能参数追平国际水平 这家细分龙头透露当前订单饱满｜科创板调研掘金)
《科创板日报》8月4日讯今日，拓荆科技披露机构调研纪要，公司于7月1日至7月31日迎来了102家机构调研，其中包括GIC、UBS资管、摩根士丹利等多家知名外资机构。
拓荆科技主营高端半导体专用设备，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个系列。值得注意的是，该公司还是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD设备厂商，其产品已广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储等国内主流晶圆厂产线。
本次调研，拓荆科技表示，公司上半年紧跟下游晶圆厂的扩产节奏，积极推进订单签署，目前公司在手订单饱满。
在产品技术上，拓荆科技提到，其三大产品目前自主研发形成的核心技术已达到国际先进水平，公司产品的总体性能及关键性参数均已达到国际同类设备水平。
其中，在PECVD产品上，拓荆科技表示基本可以实现28nm及以上制程的各种类薄膜工艺的覆盖，包括通用介质薄膜、先进介质薄膜和硬掩膜等。
另外，该公司持续看好PECVD的市场发展潜力，认为PECVD是薄膜沉积设备中应用最为广泛的，预计未来几年PECVD设备市场仍然会呈现增长的趋势。
拓荆科技也在调研中披露了其它产品的进展情况，公司PEALD设备可以覆盖逻辑芯片55-14nmSADP、STI工艺及存储领域，该产品已实现产业化应用；ThermalALD主要应用于28nm以下制程逻辑芯片，目前根据客户指标进行优化设计和验证测试。
在先进产线的进展上，拓荆科技透露，其目前应用于14nm及以下先进制程产线的产品主要在验证中，设备验证的进度需要视客户节奏情况而定。
对于下游客户持续扩产情况，拓荆科技回应称，公司一直紧跟客户的扩产节奏，积极提升公司现有产品的市场占有率。但目前由于很多客户未通过公开招标的方式采购设备，因此公司产品在客户端的占比情况没有具体统计。
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